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2025
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HMDS烘箱是什么样的烘箱
HMDS 烘箱是一种专用于基材表面处理的设备，主要应用于半导体晶圆片光刻涂胶镀膜前预处理等领域。
工作原理
基于气相沉积和表面化学改性。首先对基材进行预处理，去除表面水分和污染物，然后设备内加热 HMDS 溶剂产生气相，使其均匀分布于处理腔体中，HMDS 与基材表面的羟基发生化学反应，形成一层硅氧化物与有机基团结合的界面层，使表面从亲水性转为亲有机性，设备精确控制腔体内的温度和处理时间，以确保均匀的表面修饰。
主要结构
温控系统：保证烘箱内部温度的均匀性和稳定性，一般温度范围在 100℃到 200℃之间，具体温度依据 HMDS 的挥发特性来设定。
气流循环系统：确保 HMDS 气体在烘箱内均匀分布，减少温度梯度，同时也有助于排气和回收过量的HMDS。
定时装置：用来控制 HMDS 处理时间，确保硅片在烘箱内充分反应。
安全系统：包括过热保护、气体泄漏报警、紧急停止等，确保操作安全。
控制界面：操作者通过界面设定烘箱运行参数，监控运行状态。
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